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13345262695光化學氧化技術處（chù）理（lǐ）印染廢水
時間:2017-05-12瀏覽量:957
光化學氧化技（jì）術屬於高級氧化工藝，是新興的現代水處理（lǐ）技術（shù），該技術通（tōng）過氧（yǎng）化劑（O3、H2O2等）在紫外（或可見）光的激發和催化劑(Fe2+、Fe3+ 、半導體等)的（de）催（cuī）化作用下，產生具有強（qiáng）氧化性（xìng）的羥基自由基，羥基自由基的標準氧化電位達2.8eV，是除元素氟以外最強的氧化（huà）劑（jì），能無選擇（zé）地（dì）將絕大多數有機（jī）物（wù）徹底氧化成（chéng）CO2、H2O和其它無機物，反應速度快，耗時短，反應條件溫和（常溫（wēn）、常壓），操作條件易於控製，無二次汙染。印染廢水中染料的顏色來源於染料分子的共扼體係—含不（bú）飽和基（jī）團-N=N-、-N=O等的發色體，光化（huà）學氧化產生（shēng）的羥基（jī）自由基能夠有效打（dǎ）破共扼體係（xì）結構，使（shǐ）之變成無色的（de）有機分子（zǐ），並進一步礦化為H2O、CO2和其他無機物質。光化學氧化工藝（yì）上的特點和染料的分子結構特征決定（dìng）了（le）光化學氧化技術在印染廢水處理方麵具有其他工藝（yì）所無可比擬的優勢。
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